在掃描電鏡（SEM）中，蒸發(fā)鍍膜是一種常用的方法，用于在非導電樣品表面形成導電涂層，以提高樣品的導電性，以便在SEM觀察期間獲得更好的圖像質量和信號。

下面是一般情況下的蒸發(fā)鍍膜步驟：

準備樣品：選擇要進行蒸發(fā)鍍膜的樣品，并確保樣品表面干凈，無灰塵和污染物。

準備蒸發(fā)鍍膜設備：將蒸發(fā)鍍膜設備準備好，包括真空腔室、蒸發(fā)源、樣品支撐架等。

放置樣品：將樣品放置在樣品支撐架上，并確保樣品與蒸發(fā)源之間的距離適當。

真空抽氣：啟動蒸發(fā)鍍膜設備并進行真空抽氣，以減少環(huán)境中的氣體分子和水分。

加熱蒸發(fā)源：根據所選擇的蒸發(fā)材料（如金屬），使用適當的加熱方式（例如電阻加熱或電子束加熱）加熱蒸發(fā)源，使其達到蒸發(fā)溫度。

蒸發(fā)鍍膜：一旦蒸發(fā)源達到蒸發(fā)溫度，開始蒸發(fā)過程。蒸發(fā)的材料會以氣態(tài)形式沉積在樣品表面上，形成導電涂層。

控制蒸發(fā)時間和厚度：控制蒸發(fā)時間來控制涂層的厚度。通常，蒸發(fā)時間的控制可以通過調節(jié)蒸發(fā)源的加熱時間或者控制蒸發(fā)源的電流或功率來實現。

冷卻和凝固：在蒸發(fā)完成后，關閉蒸發(fā)源的加熱，并等待樣品和涂層冷卻和凝固。確保涂層完全固化后再處理樣品。

請注意，具體的蒸發(fā)鍍膜步驟可能因不同的蒸發(fā)設備和材料而有所不同。在進行蒸發(fā)鍍膜之前，建議閱讀蒸發(fā)設備的操作手冊，并遵循手冊中的指導進行操作。另外，根據您的樣品類型和SEM的要求，選擇合適的蒸發(fā)材料（如金、鉑、銀、碳等）來制備導電涂層。

ZEM18臺式掃描電鏡

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